Ống kính NIR Plan Apo 50X/0.67 – Ống kính luyện kim hiệu chỉnh vô cực dùng cho chụp ảnh xuyên silicon và giám sát quy trình laser sợi quang

Ống kính hiển vi NIR Plan Apo 50X/0.67 là một ống kính tiêu sắc phẳng cao cấp được hiệu chỉnh vô cực, tối ưu hóa đặc biệt cho các ứng dụng cận hồng ngoại (NIR). Với khẩu độ số (NA) là 0,67 và khoảng cách làm việc (WD) là 10 mm, nó mang lại độ phân giải vượt trội (0,5 µm) và khả năng truyền dẫn NIR tuyệt vời trên dải bước sóng nhìn thấy được 380–700 nm cũng như bước sóng quan trọng 1064 nm – lý tưởng cho việc kiểm tra mặt sau của tấm silicon, đo lường lỗ xuyên silicon (TSV) và giám sát thời gian thực quá trình xử lý laser sợi quang.

Thông số kỹ thuật chính:

• Độ phóng đại: 50X
• Khẩu độ số (NA): 0,67
• Khoảng cách làm việc (WD): 10 mm
• Tiêu cự: 4 mm
• Độ phân giải: 0,5 µm
• Độ sâu trường ảnh (±DF): 0,75 µm
• Góc nhìn tối đa: 0,5 mm
• Trọng lượng: 430 g
• Thiết kế quang học: Hiệu chỉnh vô cực, thấu kính phẳng tiêu sắc (APO)
• Bước sóng hoạt động: 380–700 nm & 1064 nm
• Môi trường ngâm: Không khí